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  • 光刻机


    精密位移传感器在光刻机中主要有两个应用,镜头和晶圆定位。

    1.光刻机镜头。光刻机光路极其复杂,镜头之间需要精密调整,在整个镜头组中需要使用大量微位移平台,电涡流传感器可以对镜头位移进行纳米级测量,将位移量反馈给位移平台,进行精密调整。

    2.晶圆定位。通过三个电涡流探头测量镜头到底面金属平台的距离,确保镜头到晶圆的平行度和距离。(类似激光对准类应用)

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